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第225章 请求指导

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  六月中旬。

米国和苏方暗中发生的调查与行动,沈永健一无所知。

他如今心思完全投入到了581工程上,全力攻克集成电路。

保密车间内,这次的研制队伍可谓豪华。

计算机研究所的吴培书主任,卓邵文研究员,周克勤这三位都参与了他的研制项目。

除此之外,沈永健自然带上了自己的两位学生。

自这次晋省基地回来,他对自己的学生也重新提高了关注。

剩下还有研发处的同志,以及丁八一这位华清的本科学生。

原先宽敞的保密车间,人一多再加上东西一多,空间也显得紧张起来。

“永健同志,北春光电所来消息了。”

“怎么样?他们有信心么?”

“好像信心不足…主要提及您要求的投影物镜标准太高,国际上目前都没有这么高的标准光刻物镜。”

卓邵文此刻皱着眉,面对北春光电所的回应有些着急和无奈。

集成电路的研制开启,他负责的任务便是其中最关键的二代光刻机研制。

相比起第一代接触式光刻机,二代光刻机的设计图纸已由沈永健给出。

采用的是步进式投影光刻,相比第一代,由于无需掩膜版接触硅片,它能彻底解决掩膜版污染和磨损问题。

同时,更高标准的物镜、步进动作的高精度定位及流程可控性,使得二代光刻机的制程理论上会提升到亚微米级。

这其中高标准的光学镜头便是光刻机必须跨过的一步。

“材料问题么?这一块我来想办法。”

镜头需要的高标准光学玻璃,沈永健原先便有思考过。

主要难点在工艺上,也就是内部应力的消除,同时需保证折射率高度均匀。

想做到就只能从原料纯度上做考量,除此之外便是精密退火炉,这些东西他虽然还未能完全设计出成品,但都在项目研制前有过考量。

“不单是材料问题,而是研制之前关于预期镜头的模型构建工作,若是只凭人力计算,根本没得搞。”

“所以他们是想要计算机?”

“要101还是要102?”

“他们需要102机的辅助,起码在模型构建完成前,需要102机不间断工作。”

计算机研究所的计算机


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